1.工藝特點:
RC－M92半光亮鎳工藝是專門為防腐蝕性能要求高的電鍍件而設計，是雙層鎳或多層鎳系統電鍍中的半光亮鎳底層。
鍍層含硫量低于0.003%,半光亮鎳層與光亮鎳層電位差達120-145mv,耐蝕性極好;
鍍層柔軟性好,覆蓋能力強,填平效果極佳;
光亮劑濃度高,消耗量小;
不含香豆素,分解產物少,鍍液穩定,容易維護，降低了廢水處理和活性碳處理的成本。.
2.鍍液組成及操作條件:
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鍍液組成及工藝條件
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適用范圍
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一般開缸用量
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***鎳
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240-300克/升
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270克/升
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氯化鎳
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45-55克/升
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50克/升
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硼酸
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40-50克/升
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45克/升
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RC-M91柔軟劑
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4-6毫升/升
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5毫升/升
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RC-M92整平劑
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0.4-0.8毫升/升
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0.6毫升/升
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RC-M93穩定劑
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0.4-0.8毫升/升
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0.6毫升/升
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半光亮鎳濕潤劑
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1-2毫升/升
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1.5毫升/升
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溫度
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45-55℃
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50-55℃
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PH值
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4.0-4.8
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4.3
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電流密度
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2-6安培/平方分米
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4安培/平方分米
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攪拌方式
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空氣或機械攪拌
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空氣或機械攪拌
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過濾方式
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連續循環過濾
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連續循環過濾
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3.鍍液配制方法
在預備槽中注入三分之二的純水,加熱至60-70℃;加入所需的***鎳及氯化鎳,攪拌使其完全溶解.在另一個容器中,將所需的硼酸用水加熱溶解后,倒入上述溶液中.
加入2毫升/升30%的雙氧水(稀釋后再加入),并攪拌1小時,再加溫至65-70℃,攪拌2小時,以除去多余的雙氧水.
在55-60℃時,加入2-3克/升的活性碳,攪拌1小時.保溫靜置4-8小時后,再過濾鍍液,并加入純水到所需的刻度,用稀***或4%的氫氧化鈉(化學純)溶液,調整PH值至4.0左右.
用波浪狀的假陰極,以低電流密度(0.2-0.5安培/平方分米)連續電解12小時以上,或直至低電位顏色由暗黑色變成淺灰色.
最后加入計算量的各種添加劑,便可以開始電鍍.
4.設備要求:
鍍槽: 內襯塑料的鋼槽或者塑料槽.
循環過濾: 過濾泵最少能在一小時內將鍍液過濾四次.每工件40小時,在過 濾泵中放入0.6克/升的活性碳，效果會更佳。